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-1200℃迷你型真空气氛管式炉
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PRODUCT CATEGORY1200℃迷你型真空气氛管式炉适用范围:主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,应用于高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
更新日期:2025-08-18
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